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普发涡轮分子真空泵HiPace 700

发布日期:2026-4-1 9:24:44 访问次数:53

普发涡轮分子真空泵HiPace 700

普发分子泵Hipace700

普发分子泵Hipace700

技术参数 HiPace 700,搭配 TC 400
氢气抽速 555 l/s
氦气抽速 655 l/s
氩气抽速 665 l/s
氮气抽速 685 l/s
氢气压缩比 4 · 10⁵
氦气压缩比 3 · 10⁷
氩气压缩比 1 · 10¹¹
氮气压缩比 1 · 10¹¹
最终转速下的氢气气体流量 14 hPa l/s
最终转速下的氦气气体流量 20 hPa l/s
最终转速下的氩气气体流量 3.5 hPa l/s
最终转速下的氮气气体流量 6.5 hPa l/s
适用于氮气的最大前级真空 11 hPa
启动时间 4 最小
可选通信接口 Profibus、Profinet、Ethercat、Devicenet、Semi E74
标准通信接口 RS-485,远程
安装方向 任意
声压级(EN ISO 2151) 50 dBA
重量(约) 11.5 kg
进气口 DN 160 ISO-K/ISO-F/CF-F
排气口 DN 25 ISO-KF /G 1/4"
市场和应用
1、车辆及运输
热处理
泄漏检测和 EoL 测试
太空探索
电子束焊
3D 打印
2、电池
泄漏检测和 EoL 测试(主控)
3、化学品
实验室真空
4、氢能经济
泄漏检测和 EoL 测试(主控)
5、医疗
诊断成像
实验室真空
医用加速器
质谱仪
6、冶金
电子束焊
真空铜焊 / 钎焊
3D 打印
热处理
7、制药与生物技术
实验室真空
8、发电
绿色能源生产
9、研发
高能物理
太空探索
超高真空
等离子体物理
实验室真空
质谱分析
10、制冷和空调
泄漏检测和 EoL 测试
科学仪器
质谱分析
表面分析
11、半导体
LPCVD / 扩散
剥离 / 灰化
PVD
检验与计量
Si Poly etch
轻沉积
离子注入
PECVD
光刻技术
金属和高 K 蚀刻
氧化物蚀刻
Load lock 和 传输
ALD
12、技术气体
装瓶
13、薄膜镀层
实验室涂层

工作时间

早9:00 - 晚18:00

周六日休息

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